TI - Nucleation and Growth of Crystalline Grains in rf - sputtering . acta optica sinica, 2009, 31 (4): 559 - 564 . acta optica sinica, 2009, 31 (4): 559 - 564 . acta optica sinica, 2009, 31 (4): 559 - 564₂薄膜SP - 280797 VL - 2009 AB -非晶态 TiO 2 将薄膜射频溅射到钼透射电子显微镜(TEM)栅格上的一氧化碳硅和碳载体薄膜上，并在TEM加热阶段进行原位退火 250 ∘ 结晶的演化符合经典的均质形核和各向同性晶粒生长模型。透射电镜薄片的二维晶粒形貌允许直接识别薄膜的非晶态和结晶区域，用于测量晶体体积分数和晶粒数密度。通过假设动力学参数在结晶开始后仍然保持不变，最终的平均晶粒尺寸被计算出来，使用完全结晶状态的解析外推。电子衍射显示锐钛矿相占优势。SN - 1687-9503 UR - https://doi.org/10.1155/2009/280797 DO - 10.1155/2009/280797