TY - JOUR AU - Osadnik, S. J. AU - Berlicki, T. PY - 1980 DA - 1900/01/01 TI - Thin Film Al-Al₂O_3.过程电容与介电层形成于400℃SP - 387216六世- 6 AB - SN - 0882 - 7516 UR - https://doi.org/10.1155/APEC.6.219 - 10.1155 / APEC.6.219 JF - ElectroComponent科技PB Hindawi出版公司KW - ER